3月9日上午,荷蘭光刻機巨頭阿斯麥(ASML)發布聲明表示,

3月9日上午,荷蘭光刻機巨頭阿斯麥(ASML)發布聲明表示,ASML預計必須申請許可證方可出口最先進的浸潤式DUV設備。同時公司還表示「新的出口管制措施並不針對所有浸潤式光刻系統,先進程度相對較低的浸潤式光刻系統已能很好滿足成熟製程為主的客戶的需求。」荷蘭政府在3月8日表示,計劃對半導體技術出口實施新的管制。(一財)
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