英特爾擬在日本設立研發中心 配備EUV曝光機

(中央社東京2024年09月3日綜合外電報導)日經亞
洲(Nikkei Asia)今天報導,美國晶片大廠英特爾與
日本官方研究機構將在日本設立先進半導體研發中
心,以提振日本晶片設備製造與材料產業。

這座新的研發中心將在未來3到5年落成,擬配備極
紫外光微影技術(EUV)設備。設備製造商與材料商
只要繳交費用,就能使用設備進行測試與試作。這是
日本第一座供廠商共用EUV曝光機的研發中心,也是
日本研究機構首度導入EUV曝光機。

隸屬於日本經濟產業省(經產省)的產業技術綜合
研究所(AIST)將負責營運這座研發中心;而英特爾
將提供使用EUV技術製造晶片的專業知識。這座研發
中心的總投資額上看數百億日圓。

EUV在製造5奈米以下先進晶片扮演重要角色,不
過一台EUV設備動輒要價逾400億日圓,並非是許多
材料商與設備商可單獨負擔的價格。

而資金不夠雄厚的廠商目前只能使用海外研究單位
的EUV設備來研發產品,例如比利時微電子研究中心
(IMEC);此外,日本政府與8家民間企業合資的晶
圓代工廠Rapidus計劃今年12月引進EUV設備,以便製
造產品,不過日本研究機構目前尚無這類設備。

隨著美中科技競爭日趨激烈,美國已經加強管制對
中國EUV相關出口,其中包含設備與材料,不過管制
措施也導致廠商從海外研究機構回收數據到日本之際
更加耗時。未來日本國內就能使用EUV曝光機,就能
減少管制帶來的阻礙。

荷蘭設備商艾司摩爾控股公司(ASML Holding)主
宰EUV曝光機市場,不過生產晶片需要經過超過600
道製程,而相關設備與材料的發展也在生產晶片上至
關重要。

日本企業之中,雷泰光電(Lasertec Corp)在EUV
相關檢測設備市場中舉足輕重,光阻劑大廠JSR在製
造晶片電路所需的感光材料方面具有優勢,而英特爾
希望透過建立新的研發中心,與這些材料、設備供應
商加強關係。
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