清溢光電:半導體芯片掩膜版技術方面,公司已實現180nm工藝

清溢光電:半導體芯片掩膜版技術方面,公司已實現180nm工藝節點半導體芯片掩膜版的客戶測試認證及量產,正在開展130nm-65nm半導體芯片掩膜版的工藝研發和28nm半導體芯片所需的掩膜版工藝開發規劃。
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