【上海微電子“投影物鏡光學系統及光刻機”專利公開】11月28

【上海微電子“投影物鏡光學系統及光刻機”專利公開】11月28日訊,上海微電子裝備(集團)股份有限公司今日公開了其最新的光刻機相關專利。據天眼查顯示,上海微電子公開的專利名爲“投影物鏡光學系統及光刻機”。該專利摘要顯示,本發明提供了一種投影物鏡光學系統及光刻機,所述投影物鏡光學系統沿其光軸方向從物面到像面依次包括:第一透鏡組、第二透鏡組、光闌、第三透鏡組與第四透鏡組。其中,所述第三透鏡組與所述第二透鏡組關於所述光闌對稱,所述第四透鏡組與所述第一透鏡組關於所述光闌對稱,所述投影物鏡光學系統是對稱結構,且所述投影物鏡光學系統中所有的透鏡組均具有正光焦度,以此可以在提高成像質量的基礎上,增大曝光系統的視場尺寸,提升產率。從上海微電子的主要股東信息來看,A股上市公司上海電氣持有公司42.3%的股份,張江高科全資子公司上海張江浩成創業投資有限公司持有公司14.21%股份。
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