【日企將爲Rapidus量產尖端光掩模 面向2nm製程】3月

【日企將爲Rapidus量產尖端光掩模 面向2nm製程】3月27日訊,日本公司DNP近日宣佈,計劃爲Rapidus研發並量產用於2nm製程芯片的最尖端光掩模產品,預計2027年實現量產。此外,日本凸版(Toppan)公司也將開發最尖端的光掩模。(日經中文網)
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