【阿斯麥High-NA EUV光刻機取得突破 成功印刷10納

【阿斯麥High-NA EUV光刻機取得突破 成功印刷10納米線寬圖案】4月18日訊,荷蘭阿斯麥 (ASML) 公司宣佈,其首臺採用0.55數值孔徑 (NA) 投影光學系統的高數值孔徑 (High-NA) 極紫外 (EUV) 光刻機已經成功印刷出首批圖案,這標誌著ASML公司以及整個高數值孔徑EUV光刻技術領域的一項重大里程碑。 (tomshardware)
貼心提醒:
1.本公司所提供之即時報價資訊,不代表勸誘投資人進行期貨交易,且不保證此資料之正確性及完整性。
2.實際可交易商品相關資訊請以主管機關公告為限。