【清溢光電:正在推進28nm芯片所需掩膜版工藝開發規劃】5月

【清溢光電:正在推進28nm芯片所需掩膜版工藝開發規劃】5月16日訊,清溢光電近期調研紀要顯示,公司已實現180nm工藝節點半導體芯片掩膜版的量產,以及150nm工藝節點半導體芯片掩膜版的客戶測試認證與小規模量產,正在推進130nm-65nm的PSM和OPC工藝的掩膜版開發和28nm半導體芯片所需的掩膜版工藝開發規劃。
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