【阿斯麥和IMEC聯合光刻實驗室啓用】6月3日訊,比利時微電

【阿斯麥和IMEC聯合光刻實驗室啓用】6月3日訊,比利時微電子研究中心(IMEC)和阿斯麥(ASML.O)6月3日宣佈,由雙方共同運營的High-NA EUV光刻實驗室(High NA EUV Lithography Lab)在荷蘭費爾德霍芬(Veldhoven)開幕,該實驗室可提供High NA EUV掃描儀(TWINSCANEXE:5000)及周邊處理工具。聲明中稱,該實驗室的啓用是爲大批量生產High NA EUV做準備的一個里程碑,預計將於2025-2026年實現大批量生產。
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